ASML ha desarrollado equipos de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE), considerados unos de los más avanzados del mundo. Esta tecnología, que ha estado en desarrollo durante más de 20 años, ha revolucionado la producción de circuitos integrados, fundamentales para teléfonos móviles, computadoras y servidores de inteligencia artificial. La clave de este avance radica en el trabajo con luz ultravioleta de 13,5 nanómetros, un descubrimiento que fue posible gracias a la colaboración con la empresa alemana Zeiss, que produce los espejos necesarios para la manipulación de esta luz.
La luz utilizada en estas máquinas es tan precisa que podría permitir escribir obras completas en una hoja de papel. En su diseño, los ingenieros de ASML inicialmente consideraron cuatro longitudes de onda: 13,5 nm, 11,4 nm, 6,6 nm y 4,8 nm. Sin embargo, las longitudes más bajas se descartaron debido a limitaciones en los materiales fotorresistentes, y 11,4 nm fue eliminada por el uso de berilio, un elemento tóxico. La decisión recayó en 13,5 nm, que permite el uso de molibdeno y silicio en el diseño de los espejos.
Esta longitud de onda, utilizada por empresas como TSMC, Intel, Samsung, SK hynix y Micron Technology, requiere una precisión extrema en la fabricación de los espejos, los cuales son pulidos a nivel atómico usando iones de argón. Esto asegura que se detecten y corrijan defectos con una precisión inferior al nanómetro.
Además, ASML ha anunciado que sus futuras máquinas, conocidas como Hyper-NA, también utilizarán luz ultravioleta de 13,5 nm, con un aumento en la apertura óptica de 0,55 a 0,75 para mejorar la resolución. Se espera que estos nuevos equipos estén listos para 2033, lo que sugiere que la UVE de 13,5 nm seguirá siendo fundamental en la fabricación de chips por la próxima década.